Новая литографическая система ASML за 380 млн. $

Позволяет создавать на кремниевой подложке элементы толщиной 8 нм, плотность размещения транзисторов в итоге удаётся увеличить в три раза.
Система массой 150 тонн в разобранном состоянии занимает 250 контейнеров, а для её монтажа коллективу из 250 инженеров требуется около шести месяцев.
В этом году компания выпустит несколько экземпляров таких сканеров с высокой числовой апертурой, а к 2028 году надеется выйти на ежегодный выпуск 20 таких систем.